Britanske oblasti so 30. maja zagnale nov vizumski program za diplomante z najboljših svetovnih univerz, ki se bodo lahko prijavili za delo v Združenem kraljestvu. S tem želijo v Londonu po brexitu privabiti posameznike z velikim potencialom. Med 50 najboljšimi univerzami na seznamu so le tri iz EU, večinoma pa prevladujejo ameriške ustanove.
Britansko notranje ministrstvo je predstavilo novo shemo za izdajo vizumov, namenjeno “posameznikom z velikim potencialom” na začetku njihove kariere, z diplomo ali magisterijem, ki bi bili upravičeni do dveletnega delovnega vizuma in bi lahko s seboj pripeljali svoje družine. Kandidati z doktoratom se bodo lahko prijavili za bivanje do tri leta, je poročal bruseljski spletni portal Politico.
Diplomanti s 50 najboljših univerz zunaj Združenega kraljestva, ki so diplomirali v zadnjih petih letih, bodo lahko zaprosili za poseben vizum za delo. V nasprotju z drugimi vizumskimi shemami ne bodo potrebovali ponudbe za delo ali sponzorja v času vloge za vizum. Po tem bodo lahko prešli na druge vizume za dolgoročno zaposlitev, če bodo izpolnjevali določene zahteve, so pojasnili na ministrstvu.
Po besedah britanske notranje ministrice Priti Patel nova shema “na prvo mesto postavlja sposobnosti in talent, ne pa, od kod nekdo prihaja”, poroča britanska mreža BBC.
Notranje ministrstvo je ob tem objavilo tudi seznam 50 univerz, katerih diplomanti se lahko prijavilo za program. Na njem prednjačijo ZDA z 20 izobraževalnimi ustanovami, le tri na seznamu najboljših univerz pa so v EU – švedski Karolinški inštitut, pariška univerza Paris Sciences et Lettres in univerza v Münchnu. Drugi dve iz Evrope sta švicarski Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne in ETH Zürich, še navaja Politico.
Med ameriškimi so na seznamu med drugim univerze Harvard, Yale in MIT, med ostalimi pa sta denimo tudi univerza v Hongkongu in univerza v Melbournu.
Nekateri akademiki so ob tem izrazili razočaranje, ker na seznam ni bila vključena nobena južnoazijska, latinskoameriška ali afriška univerza, ob tem navaja BBC.
J.S., STA
